海德堡仪器为其客户部署的MLA 300无掩膜光刻设备，通过集成我们的VisionPro软件，实现了对晶圆上微米级对准标记的高精度识别与图案校准。

在VisionPro的模式匹配工具支持下，该系统能够稳定识别对准标记位置，即使面对高度变化、翘曲或热应力导致的畸变表面，也能动态调整光刻图案，实现层层精准叠加。同时，系统中的“拟合质量”算法依据我们的识别结果自动判断基底对位情况，预警潜在缺陷，从源头控制不良率。

更重要的是，VisionPro提供的可拓展图像工具包，使海德堡仪器能够快速响应客户不同材料、不同图案的对准需求，无需从头开发软件，大幅缩短项目交付周期。

集成VisionPro的无掩膜光刻系统在投产后，展示了在处理复杂基底材料和多层电路对位时更高的稳健性与精度。在保障关键对位精度的前提下，实现了如下显著提升： 

· 产量提升至95%，报废晶圆大幅减少；

· 废料成本显著下降，单片晶圆利润提高；

· 设备整体效率（OEE）优化，单位产出的经济价值提升。